ВСТУПНІ ДО МАГІСТРАТУРИ

Для охочих вступати до магістратури у 2024 році проводитимуть єдине фахове вступне випробування (ЄФВВ),  а також єдиний вступний іспит (ЄВІ).

ЄФВВ – форма вступного випробування для вступу на навчання для здобуття ступеня магістра, яка передбачає оцінювання рівня підготовленості вступника з фаху.
ЄВІ – форма вступного випробування для вступу на навчання для здобуття ступеня магістра, яка поєднує тест загальної навчальної компетентності та тест з іноземної мови (англійської, німецької, французької або іспанської на вибір вступника).
Оприлюднено календарний план організації та проведення у 2024 році вступних випробувань до магістратури.
Відповідно до календарного плану організації та проведення у 2024 році вступних випробувань до магістратури, затвердженого наказом Міністерства освіти і науки України, вступні випробування проходитимуть у дві сесії:основна сесія: 24 червня —  15 липня; додаткова сесія: 31 липня —  14 серпня. Наказом також передбачено два періоди реєстрації осіб, які бажають узяти участь у ЄФВВ та/або ЄВІ, —  основний та додатковий. 
Основний етап реєстрації триватиме із 7 до 29 травня включно. Реєстрацію здійснюватимуть приймальні комісії закладів вищої освіти. Зареєстровані учасники отримають екзаменаційні листки, у яких буде зазначено дані для здійснення входу на інформаційну сторінку «Кабінет учасника вступних випробувань до магістратури». У додатковий період (17–21 червня) матимуть змогу зареєструватися для проходження ЄФВВ та/або ЄВІ ті особи, які не змогли цього зробити під час основного періоду реєстрації.
До 17 червня учасники, зареєстровані на основну сесію вступних випробувань, отримають на своїх інформаційних сторінках запрошення-перепустки, де буде зазначено дату, час і місце проведення тестування, а до 26 липня – учасники додаткової сесії.
Інформацію про результати основної сесії за шкалою 100–200 балів буде розміщено на інформаційних сторінках учасників до 20 липня, додаткової – до 20 серпня.
Завантажити графік вступних випробувань до магістратури у форматі PDF.